光刻機（膠）板塊2月28日漲0.72%，華懋科技領漲，主力資金凈流出2.04億元 環球觀焦點

(資料圖)

2月28日光刻機（膠）板塊較上一交易日上漲0.72%，華懋科技領漲。當日上證指數報收于3279.61，上漲0.66%。深證成指報收于11783.8，上漲0.7%。光刻機（膠）板塊個股漲跌見下表：

從資金流向上來看，當日光刻機（膠）板塊主力資金凈流出2.04億元，游資資金凈流入2665.09萬元，散戶資金凈流入1.78億元。光刻機（膠）板塊個股資金流向見下表：

北向資金方面，當日光刻機（膠）板塊北向資金持股市值為72.01億元，增持0.12億元。其中增持最多的是上海電氣，增持了0.18億元。減持持最多的是大族激光，減持了0.15億元。光刻機（膠）板塊北向資金持股變動明細見下表：

標簽： 資金凈流出 華懋科技